"La Lithographie par Nano Impression (NIL) est une technique de lithographie qui consiste à presser un moule dans un polymère déposé sur le substrat à structurer. Une exposition à une source UV permet ensuite de figer la forme imprimée. Il est alors possible de reproduire des motifs de quelques nanomètres à plusieurs micromètres de largeur sur de grandes surfaces (plaque de 200 mm de diamètres) en une seule étape. Le CEA-LETI dispose d'une plateforme de nano impression automatisée pour répondre au besoin de la production à grande échelle. Bien que les procédés actuels aient été qualifiés, certains développement liés aux matériaux utilisés sont encore nécessaires et devront être validés par des phases de qualification. Une des pièces maîtresse de ce procédé et le moule qui sert à imprimer les résines. Actuellement réalisés dans des matériaux polymères stabilisés sous-exposition UV (365 nm) ces moules doivent répondre à plusieurs caractéristiques indispensables au procédé : propriétés mécaniques, propriétés anti-adhésives vis à vis des polymères imprimés, durée de vie d'utilisation. Le travail du stage consiste à réaliser une évaluation de la compatibilité des matériaux organiques, utilisés dans la fabrication des moules, avec les matériaux organiques imprimés. Outre les caractérisations morphologiques, le candidat réalisera une étude des taux de défauts (communément appelé défectivité) et réalisera une classification de ces mêmes défauts en fonction des couples de matériaux identifiés. Le candidat aura pour se faire accès à l'ensemble des équipements en salle blanche tant pour les besoins de fabrication que pour les besoins de caractérisation. Le candidat sera intégré à une équipe qui travail en lien étroit avec des partenaires internationaux. "