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Evénement | Nouvelles technologies


International Workshop on Junction Technology

Du 28/09/2026 au 29/09/2026
 INP-Ense³, Grenoble, France

​​​​​​​​​​​​​ÉVÈNEMENT

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Explorez l’avenir des technologies de jonctions des semi-conducteurs avec le CEA-Leti. ​​

Cet atelier rassemble des chercheurs, des ingénieurs et des experts industriels pour échanger sur les avancées les plus récentes et les défis liés à la technologie des jonctions des semi-conducteurs.

Membre du comité d’organisation, avec Philippe Rodriguez (CEA-Leti) en tant que General Chair, le CEA-Leti joue un rôle clé dans ces échanges et contribue à renforcer les collaborations au sein de l’écosystème des semi-conducteurs. ​


PRINCIPAUX RÉSULTATS SCIENTIFIQUES ​

Avec 4 papiers, l’institut présentera cette année ses p​rincipaux résultats scientifiques à ESSERC, portant sur les thématiques suivantes :

  • Compréhension des premières étapes de formation des contacts à base de titane pour les technologies FD-SOI avancées.
  • La ligne pilote FAMES.
  • Étalonnage de matériaux avancés pour les simulations de recuit laser à l'échelle de la nanoseconde.
  • Contacts ohmiques à base de nickel sur p-GaAsSb / InP : alliage interfacial et propriétés électriques.​

Papiers scientifiques du C​EA-Leti

Lundi 28 Sept. 2026
11:15 - 11:35
S2 - 02

1er Auteur : Marie Merlin

Insights into Early Phase Formation in Ti-Based Contacts for Advanced FD-SOI

Lundi 28 Sept. 2026
13:45 - 14:00
​S3 - Special Session

1er Auteur : Dominique Noguet

FAMES Pilot Line​​

Mardi 29 Sept. 2026
14:20 - 14:40
S9 - 02​

1er Auteur : Gabin Ternin-Rozat​

Advanced materials calibration for nanosecond laser annealing simulations ​

Mardi 29 Sept. 2026
15:45 - 16:05
S10 - 02​

1er Auteur : Ali Ahmad

Ni-Based Ohmic Contacts on p-GaAsSb / InP: Interfacial alloying & Electrical Properties​​ ​


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ZOOM SUR LA LIGNE PILOTE FAMES​

Le CEA-Leti participera également au programme de l'IWJT 2026 avec une session spéciale consacrée à la ligne pilote FAMES, animée par Dominique Noguet, coordinateur de la ligne pilote FAMES.​

S3: Special Session

September 28, 1:45 - 2:00 p.m

The FAMES Pilot Line

Dominique NOGUET 

FAMES Pilot Line Coordinator 

 
​​ © Lory Vuillard / CEA​

RENCONTREZ L’ÉQUIPE FAMES PILOT LINE​ SUR SON STAND

Échangez avec nos experts et découvrez les dernières avancées de la ligne pilote FAMES en FD-SOI, mémoires non volatiles embarquées, RF, intégration 3D et circuits intégrés de gestion de l’énergie (PMIC).

Découvrez comment FAMES contribue à l’innovation dans les technologies avancées des semi-conducteurs et au renforcement de la souveraineté européenne dans le domaine des puces électroniques.




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The FAMES Pilot Line of the Chips JU is funded by Horizon Europe and Digital Europe Programmes and  the National Public Authorities of the partners involved. Grants N° 101182279 and 101182297.​​

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A PROPOS DE IWJT 2026

Le 23ᵉ International Workshop on Junction Technology (IWJT 2026) se tiendra les 28 et 29 septembre 2026 à Grenoble, en France. Il s'agit de la première édition organisée hors du Japon et de la Chine depuis la création de l'atelier en 2000.L'IWJT est le principal forum international consacré aux technologies de formation des jonctions dans les semi-conducteurs. Chaque année, il réunit plus de 100 chercheurs et ingénieurs de premier plan issus d'Asie, d'Europe et des États-Unis. ​

DL_Icon.pngPlus d'information sur le site de ​IWJT 2026

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Infos Pratiques

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Du 28/09/2026 au 29/09/2026 | ​INP-Ense³, Grenoble, France

W​eb​s​​ite​​​

 Contact : Philippe Rodriguez​​  pour toutes questions.​


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CEA-Leti contact

Philippe Rodriguez

Chef de Laboratoire, CEA-Leti

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