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Wooptix installe le premier système de métrologie Phemet® au CEA-Leti

Représente le premier déploiement en production de Wooptix et établit une collaboration à long terme avec l'un des principaux écosystèmes mondiaux de R&D en semi‑conducteurs.

Publié le 29 juin 2026

GRENOBLE, France et TENERIFE, Espagne, 29 juin 2026 —Wooptix, acteur majeur de l'innovation en métrologie des semi-conducteurs fondée sur l'imagerie de phase par front d'onde, a annoncé aujourd'hui l'installation de son système Phemet® au CEA-Leti (Laboratoire d'électronique et de technologie de l'information) à Grenoble. Cette installation marque une étape clé dans le développement de l'entreprise et renforce sa présence dans le domaine de la métrologie et du contrôle des procédés pour l'industrie des semi-conducteurs. Installé le 4 mai 2026, le système soutiendra des travaux communs sur la signature des procédés technologiques à l'échelle du wafer, la nanotopographie et la métrologie associée aux procédés de packaging avancé dans l'environnement d'une salle blanche industrielle. Cet accord a été mis en avant lors des Leti Innovation Days/LID World Summit, l'événement annuel phare du CEA-Leti, qui s'est tenu du 23 au 25 juin à Grenoble.

«Cette installation représente une étape majeure pour Wooptix et une avancée nécessaire dans notre feuille de route pour soutenir les principaux fabricants de semi‑conducteurs dans le monde », a déclaré José Manuel Ramos, CEO de Wooptix. «Notre collaboration avec le CEA-Leti nous permettra de valider le Phemet® dans un environnement de salle blanche conforme aux standards industriels et d'accompagner le développement de procédés de nouvelle génération aux côtés des leaders du secteur. Ce projet renforce notre présence à Grenoble, un pôle européen de référence pour l'innovation et l'industrie des semi-conducteurs.»

Cette installation marque le premier déploiement du Phemet®, l'équipement de métrologie développé par Wooptix pour l'industrie des semi-conducteurs. Cette collaboration permettra à Wooptix de tester et d'optimiser sa technologie directement sur des procédés à l'état de l'art, tout en explorant de nouveaux cas d'usage au sein de l'une des infrastructures de R&D les plus avancées d'Europe.

«Le CEA-Leti est enthousiaste à l'idée d'évaluer les performances de la première plateforme Wooptix entièrement automatisée pour wafers de 3​00 mm, une étape majeure qui permettra le déploiement d'un large éventail d'applications à l'échelle industrielle. Notre collaboration avec Wooptix ouvre de nouvelles perspectives pour relever les défis de la métrologie liés à la nanotopographie des wafers», a déclaré Viorel Balan, chef de projet de la collaboration. «En utilisant la plateforme Phemet®, nous visons à approfondir notre compréhension des procédés de fabrication des semi-conducteurs, à soutenir des initiatives de recherche dans le cadre de projets européens et à accélérer le développement des technologies de packaging avancé de nouvelle génération.»

Système de métrologie Wooptix Phemet®

Wooptix a lancé son système de métrologie Phemet® en novembre 2025. Il réalise des mesures ultrarapides et extrêmement précises de la forme et de la géométrie des wafers, avec une résolution inférieure au nanomètre. Phemet® répond au besoin croissant d'un contrôle plus performant des procédés de fabrication en production de masse, alors que l'industrie poursuit son évolution vers des dispositifs toujours plus performants, plus compacts et plus complexes, caractérisés par des dimensions nanométriques et de nouvelles approches d'intégration.​


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