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Evénement | Nouvelles technologies


plasma etch and strip processes for micro-, nano- and bio-technologies

Du 08/06/2026 au 09/06/2026
Minatec, Grenoble, France

​​​​​​​​ÉVÉNEMENT​​

Découvrez les dernières avancées du CEA-Leti dans le domaine des technologies d’interconnexion.

L’atelier réunit des scientifiques, ingénieurs et partenaires industriels pour échanger sur les avancées et défis du gravage sec, du traitement plasma et des technologies associées pour les semi-conducteurs, les MEMS et les applications émergentes.


 ​DÉCOUVREZ LES RÉSULTATS SCIENTIFIQUES DU CEA-LETI

Avec 5 papiers (dont un keynote), l’institut présentera cette année ses p​rincipaux résultats scientifiques à PESM 26, incluant les sujets suivants :

  • Plates-formes photoniques avancées basées sur SOI, SiN et l’intégration hétérogène
  • Développement d’un procédé de gravure plasma du GeTe pour des applications de commutateurs RF
  • Gravure plasma HBr/H+ de films chalcogénures GeSe-GeTe pour la photonique intégrée : morphologie de structures pleines et structurées
  • Gravure par ion réactif de guides d’onde en LiNbO₃ : influence de la chimie gazeuse fluorée sur la morphologie et les vitesses de gravure
  • Étude des plasmas fluorés pour l’efficacité du nettoyage de chambre et la durabilité environnementale en microélectronique
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P​​apiers scientifiques​ du CEA-Leti

Monday 8 June 2026
10:50 - 11:10 a.m
Session 1
Maison MINATEC

1st Author : OUJANBA Mehdi

GeTe plasma etch process development for RF switch applications​

Monday 8 June 2026
1:00 - 1:30 p.m
Session 2
Maison MINATEC

1st Author (keynote) : OHASSAN Karim

Advanced photonics platforms based on SOI, SiN, and heterogeneous integration

Monday 8 June 2026
2:10 - 2:30 p.m
Session 2 
Maison MINATEC

1st Author : BEDOUI Giovann​

HBr/H+ Plasma Etching of GeSe-GeTe Chalcogenide Films for Integrated Photonics: Morphology of Blanket and Patterned Structures

Monday 8 June 2026
2:30 - 2:50 p.m
Session 2​
Maison MINATEC

1st Author : SYLVESTRE Nael

Reactive ion etching of LiNbO3 waveguides: Influence of fluorine-based gas chemistry on morphology and etch rates

Tuesday 9 June 2026
​2:20 - 2:40 p.m
Session 5
​Maison MINATEC

1st Author : BERNARD Nina​

Investigating F Plasmas for Chamber Cleaning Efficiency and Environmental Sustainability in Microelectronics

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Monday 8 June 2026
5:40 - 7:00 p.m
P01 - POSTER SESSION
​Maison MINATEC

P01 : Nicolas POSSEME 

Benefit of post etch treatment for defectivity improvement in the BEOL​

Monday 8 June 2026
5:40 - 7:00 p.m
P07 - POSTER SESSION
​Maison MINATEC

P07 : Sandra KOZUCH

Study of damages induced by ultra-violet photons from a Cl2/Ar plasma on N-polar n-GaN

Monday 8 June 2026
5:40 - 7:00 p.m
P20 - POSTER SESSION
​Maison MINATEC

P20 : Axel MESSAOUDI 

Study of plasma-surface interactions for direct bonding application​

Monday 8 June 2026
5:40 - 7:00 p.m
P21 - POSTER SESSION​
​Maison MINATEC

P21 : Aurélien SARRAZIN 

How gaseous effluent analysis enhances understanding of plasma processes and paves the way toward

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ORGANIZING AND
SCIENTIFIC COMMITTEE
​REPRESENTATION​

Thierry CHEVOLLEAU
Patricia PIMENTA-BARROS
​Nicolas POSSEME

More information about ​Organizing and scientific commitee representation


NE MANQUEZ PAS LA PRÉSENTATION DE​ KARIM HASSAN ​SUR LES PLATES-FORMES PHOTONIQUES AVANCEES BASEES SUR SOI, SIN ET L’INTEGRATION HETEROGENE

Session 2: Plasma etching processes for more than Moore applications

Lundi 8 Juin, 13h00 - 13h30

Plates-formes photoniques avancées basées sur SOI, SiN et l’intégration hétérogène

Karim HASSAN 

Chef du laboratoire LIPS (Laboratoire intégration photonique sur silicium)

 
 © UtopikPhoto - CEA​​

À PROPOS DE PLASMA ETCH AND STRIP PROCESSES FOR MICRO-, NANO- AND BIO-TECHNOLOGIES

PESM 26 réunit des scientifiques, ingénieurs et partenaires industriels pour échanger sur les avancées et défis du gravage sec, du traitement plasma et des technologies associées pour les semi-conducteurs, les MEMS et les applications émergentes.

DL_Icon.pngPlus d'informations sur le site de ​PESM


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Infos Pratiques

Du 08/06/2026 au 09/06/2026​ | ​Minatec, Grenoble, France​

We​bsite​​​

 Contacts: ​​Thierry Chevolleau ou Patricia Pimenta Barros​  pour toutes questions


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Contacts CEA-Leti

Thierry Chevolleau

Chef du labo LGRA

Patricia Pimenta Barros

Ingénieur de recherche en électronique et électricité​







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